PENGARUH PENGOTOR Co PADA STRUKTUR DAN KONDUKTIVITAS FILM TIPIS TiO2

Aip Saripudin, Tjetje Gunawan, Yuda Muladi

Abstract


Film tipis TiO2 (titanium dioksida) dan Co:TiO2 (titanium dioksida yang dikotori oleh atom kobal) telah ditumbuhkan di atas substrat Si(100) menggunakan teknik MOCVD (metal organik chemical vapor deposition). Film masing-masing ditumbuhkan pada suhu substrat 450oC selama 120 menit dengan tekanan kamar reaktor 2 ´ 10-3 torr. Film TiO2 dan Co:TiO2 yang dihasilkan memiliki struktur kristal tetragonal (a = b = 4,7172 Å, c = 3,0063 Å) berfase rutil dengan orientasi dominan pada (002) dan ukuran bulir rata-rata 170 nm. Permukaan film cukup halus dan merata. Berdasarkan hasil pengukuran menggunakan metode Hall van der Pauww, terjadi perbedaan konduktivitas antara film TiO2 dan Co:TiO2. 


Full Text:

PDF

References


Bernardi, M.I.B., Lee, E.J.H., Lisboa-Filho, P.N., Leite, E.R., Longo, E., and Varela, J.A., (2001), TiO2 Thin Film Growth Using the MOCVD Method, Materials Research, Vol. 4, No. 3, 223-6.

Thamapat, K., Limsuwan, P., and Ngotawornchai, B., (2008), Phase Characterization of TiO2 Powder by XRD and TEM, Kasetsart J. (Nat. Sci.) 42 : 357 – 361.

Matsumoto, Y., Murakami, M., Shono, T., Fukumura, T., Kawasaki, M., Ahmet, P., Chikyow, C., Koshihara, S., and Koinuma, H., (2001), Room Temperature Ferromagnetism in Transparent Transition Metal-Doped Titanium Dioxide, Science 291, 854.

Saragih, H., (2006), Penumbuhan Film Tipis Semikonduktor Ti1-xCoxO2 Rutil Feromagnetik dengan Metode Metal Organic Chemical Vapor Deposition dan Karakterisasinya, Disertasi ITB.

Abdullah, M., dan Khairurrijal, Karakterisasi Nanomaterial (Teori, Terapan, dan Pengolahan Data), CV Rezeki Putera Bandung, 2010.

Barna, P.B. and Adamik, M., (1998), Fundamental Structure Forming Phenomena of Polycrystalline Films and The Structure of Zone Models, Thin Solid Films, 317, 27.


Refbacks

  • There are currently no refbacks.